據路透社報道，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）行政總裁（CEO）Peter Wennink近日表示，中國不太可能獨立造出光刻機，「但也沒那麼絕對（never say never）」。
Peter Wennink表示，中國不太可能獨立複製（replicate）出頂尖的光刻技術，因為阿斯麥依賴於不懈的創新，以及整合只有從非中國供應商處才能獲得的零部件。「但我的意思並不是絕對不可能，因為中國的物理定律和我們這裏是一樣的。但也沒那麼絕對，他們肯定會嘗試的。」
光刻是晶片製造的核心環節，也是研發難度最大的半導體設備。目前，阿斯麥佔據全球最頂尖的光刻機市場。Peter Wennink在作上述表述同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國出口最先進光刻機的許可，但一些生產成熟製程的光刻機出口並不受限制。
根據阿斯麥財報，從出貨地來看，台灣依然是其2021年最大市場，四季度有51%的光刻系統發往當地，佔比按季提升5個百分點；韓國位列第二，佔27%，按季下降6個百分點；中國大陸排第三，佔22%，佔比提升12個百分點。
目前，台積電等生產7nm-5nm製程的芯片採用的都是0.33 NA EUV光刻機，阿斯麥正在研發的0.55 NA光刻機每台售價約為3億美元（約合23億港元），比0.33 NA光刻機售價高出一倍。
CINNO Research半導體事業部總經理Elvis Hsu表示，光刻機是半導體製造設備價格佔比最高的部分約25%至30%，其研發難點在於曝光光源、對準系統和透光鏡頭等技術的整合，以及龐大資金投入。目前，中國技術領先的光刻機研製廠家是上海微電子，可以穩定生產90/65納米製造工藝的光刻機。
從2018年開始，阿斯麥就試圖向中國大陸銷售EUV光刻機，希望進一步進入中國大陸市場，但荷蘭政府一直未批准其出口許可申請。Peter Wennink在今次財報發布當日表示，他擔心進一步的出口限制，「我對任何政府採取的出口管制措施都感到擔憂。我們嚴重缺乏成熟的半導體技術，我們需要成熟的製造能力。」
Peter Wennink去年4月就曾公開表達焦慮，指出口管制將加快中國自主研發，「15年時間裡他們將做出所有的東西」，又指中國完全自主掌控供應鏈之後，歐洲供應商將徹底失去市場。
