如何看待中国制造首台等离子光刻机？消息指，目前仅有实验室意义，可用于交换光刻机技术！

https://www.zhihu.com/question/304097402

作者：刘奥
链接：https://www.zhihu.com/question/304097402/answer/542116615
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谢邀！做过一年表面等离子共振(表面等离子激元，SPR或者SPP，下文使用缩写SPP) 并且在这个领域发过一篇文章的“相对专业”人士来回答一下~

这台基于SPP的光刻机虽然可以达到很高的“分辨率”，但是现阶段并不能应用到大家比较关心的芯片制造行业上~

SPP最初兴起于九十年代，这个技术可以突破衍射极限从而得到更高的“分辨率”。这个“分辨率”要打引号是因为基于SPP的光刻技术只能刻蚀周期性花样(无法刻蚀任意图形)。这就导致了SPP光刻技术的应用前景仅限光栅、光子晶体之类的周期性结构。当然，仅仅光栅、光子晶体本身已经相当重要了(尤其是军事应用)。

此外，这台光刻机还应该是SPP光刻技术第一次正式应用到工业领域(可能也是第一次应用到深紫外光刻领域)。而且这个技术有很好的发展前景，现在这台光刻机使用的是365nm的光源，如果使用现在最先进的193nm 氟化氩准分子激光做光源，有望将“分辨率”提升到12nm（当然，实际肯定不止换一个光源这么简单）。

至于有评论“超净间不戴口罩不专业”的，我只想说：您可能没在超净间做过科研（科研对成品率不太看重）。因为超净服是不透气的，如果天天在超净间捂得严严实实泡八个小时的话可能就直接虚脱了。所以比较常见的做法是：在不接触芯片且离光刻机比较远的时候摘下口罩甚至解开一两颗扣子透透气~ 另外，由于大多数高年级博士生手都特别稳，不戴手套做实验也比较常见的~ （这段仅限不怎么考虑成品率的学术界，工业界显然不能这样！）

 

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作者：yswyx
链接：https://www.zhihu.com/question/304097402/answer/541965179
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这个新闻出来以后，舆论出现了两个极端，一堆人说很牛，一堆人说吹牛。说很牛的外行居多，说吹牛的业内人士居多（但不是最专业的）。实际上这两种说法都对，又都不对。我来具体分析一下。

说很牛的，的确是世界级的工作，这一点毋庸置疑。超分辨力光刻技术有很多种，等离子激元只是其中一种，技术的提出已经有十几年了，其它的还有泰伯光学，全息，双光子，光子能量叠加等技术，而且已经有了商业化设备。针对等离子激元，真正做成一个成型的设备，这是我第一次见到。这是非常了不起的。而且，做到波长十分之一以下的分辨力，并且是大面积的实现，也是其它技术很难实现的。这是国内光刻领域非常重要的技术突破，而且是在很艰苦的条件做出的，很不容易。

说吹牛的，很多国内产业届的人士，限于对最新技术的了解，认为365nm无法获得超分辨力结构，甚至有人拿新闻中的照片说没戴口罩来说事儿，是很不负责任的。要说吹牛，实际要指出的是这个技术自身的局限性。以目前的技术能力，只能做周期的线条和点阵，是无法制作复杂的IC需要的图形的。更进一步，以光电所目前的实力，IC制造需要的超高精度对准技术，也是无法实现的。因此这项技术在短期内是无法应用于IC制造领域的，是无法撼动ASML在IC制造领域分毫的。它所面向的应用领域，是光学器件，比如高精密光栅，光子晶体阵列等等，虽然狭小，但需求仍然非常高端和强烈。从这一点上说，新闻报道的某些方面是有吹牛的成分的，但以目前的形势，可以理解。只是那些所谓的专业人士没黑到点子上。

综合来看，这项技术在很关键的领域实现了突破，至少获得了和欧美技术交换的基础，这是非常重要的事情。虽然短期无法实现在IC领域的应用，但形成了一定的威胁，长期还是有可能取得更重要的突破的。而这项技术最可贵的是，可以在光学器件制造领域迅速的得到应用，具有现实的商业化意义，和巨大xx价值。

在这里，请记住几个人的名字，杜春雷，罗先刚，胡松，叶甜春。没有他们的引领，创造，坚持和支撑，就没有取得成果的今天。还有那些在为中国半导体事业奋斗在一线的人们，致敬！

有个细节请各位注意，这篇文章是军报记者报道的，信息量很大。